Features:
● 4W@355nm, 3W@266nm
● 80MHz / 12ps
● High beam quality M²<1.2
● Compact , sealed and rugged industrial grade 24/7 operation
Applications:
● Semiconductor wafer inspection
● Cell sorting
● Micro material processing
● Micro stereo lithography
光束特性 | ||
项目 | GENIUS-UV-4 | GENIUS-DUV-3 |
波长(nm) | 355nm | |
功率 | 4W | 3W |
重复频率1(MHz) | 80MHz-120MHz | |
脉宽2(ps) | ＜12ps | |
光束质量 | TEM00(M2＜1.2) | |
平均功率稳定性3(RMS) | ＜2% | |
偏振度 | ＞100:1 水平 | |
光斑圆度(%) | ＞85% | |
光束指向性4(μrad/℃) | ＜20μrad/℃ | |
光斑尺寸5(mm) | ~1mm | |
一般特性 | ||
电源输入 | 220 VAC ±5% 50-60Hz | |
能量损耗 | ＜1kW | |
冷却方式 | 闭路循环水冷 | |
工作条件 | 温度 15-35℃ 湿度 ＜65% | |
加热时间(min) | ＜40min | |
